在半导体制造中，清洁过程在基本过程（例如光刻，蚀刻和去除）中运行，并且在单晶硅晶片的制备阶段起着重要作用。随着技术的开发，制造芯片的过程在28nm，14nm甚至更先进的节点上进行了进步。晶片对小污染物的敏感性也显着增强。在每个过程之前，需要从颗粒，有机物，金属杂质和氧化物层中去除晶圆表面，以确保正确地发展后续过程。获得7nm技术及以下是一个例子，如果晶圆表面每平方厘米的颗粒超过3 0.5nm，则产率可以降低12％-18％。由172nm的光源破裂的国内替换速度取决于IB CleaningWafer作为高级过程中的主要过程，并继续朝着高效率和低损失方向出现。响应纳米级有机污染物，172NM准分子紫外线清洁技术提供了一种非接触，高精度清洁解决方案，该解决方案逐渐成为行业应用和技术开发的主要方向。但是，172nm的准分子光源表示，这项技术已经依赖了很长时间，并且面临着高成本，不稳定供应和技术封锁等问题。随着全球工业链的重建以及提高供应链安全的认识，对国内替代的需求变得紧迫。 Guangmingyuan 172nm晶圆照片清洁解决方案：伟大的，无接触的精制该技术在172nm高能量的紫外线光线上娱乐有机物，以产生自由基并与氧自由基进行光敏的氧化反应，从而可以有效地在水和碳二氧化物中腐烂，从而可以在dioxide中腐烂。 172nm平面光源172nm网状电极圆管灯源技术ADVAntage：√非热处理：冷光源技术，防止热应力，适用于热敏感材料。 √极好的清洁：它可以有效地去除纳米级有机残留物并提高工艺产量。 √良好的稳定性：长期设计，稳定且可靠的性能。 √可靠交付：高级172NM准分子光源和设备制造商，保证交付。 √灵活的自定义：可以根据客户需求提供定制的设备和解决方案。适用的字段：√半导体晶圆和脱胶，因此光学镜头清洁√lcd/OLED TFT的产生（去除光片残留物的去除）√高精度PCB的模块设计用于晶圆浅清洁涂层/粘合/粘合/键和其他过程。 √长寿命设计：通过阴极材料优化和气体比控制，请确保在2500小时内输出强劲。 √非污染处理：冷光源的特征，以防止导致晶圆翘曲的热应力。 √COOLING方法：气冷/水冷可以是可选的，并且根据清洁线卫生要求进行柔性。 20多年来，Guangmingyuan建立了国内替代轻型清洁设备，在高端制造业中服务，一直从事研究和开发和生产光学技术应用程序，重点关注172NM Excimer Lightresource和设备/模块的研究和开发，涵盖了许多主要领域，涵盖了许多主要的领域，例如轻型清洁，轻巧的策划，轻度修改和纯净，纯净和纯净，纯净。依靠成熟的研发创新，设备设计和习惯功能，广为尤恩可以提供关键组件，这些组件是光学和解决方案，以帮助国内高端制造业以实现独立控制并确保工业链的安全性和稳定性。申请企业家报告，并分享企业家精神的好主意。单击此处讨论新的机会一起神经！